遠藤幸一客員研究員と横川慎二教授（i-パワードエネルギー・システム研究センター）がAdvanced Metallization Conference 2024, 33rd Asian SessionでBest Poster Awardを受賞

2024.10.17

横川慎二研究室の遠藤幸一客員研究員（情報学専攻）と横川慎二教授（i-パワードエネルギー・システム研究センター）が、2024年10月３日（木）、４日（金）に東京大学武田ホールで開催されたAdvanced Metallization Conference (ADMETA) 2024, 33rd Asian SessionにてBest Poster Awardを受賞しました。

本カンファレンスは、先端ロジックおよびメモリ半導体デバイスの配線（Back End 0f Line:BEoL）に関する材料、プロセス、デバイス、回路設計、パッケージング、装置、特性評価などについて、産学の研究者が集って議論を行う国際会議です。
本賞は、ポスターセッションにおいて最も優秀と認められた発表に授与されるものです
配線間の寄生容量を低減するための低誘電率絶縁膜のTime-Dependent Dielectric Breakdown（TDDB）現象について、微細化に伴うリソグラフィーや化学機械研磨のばらつきと、初期故障スクリーニングがデバイス信頼性に与える影響を寿命分布モデルと絶縁破壊の物理モデルの両者を反映したシミュレーションにより詳細に調査した発表が認められ表彰となりました。今回はポスター発表29件のうち１件に授与されました。

【受賞者】Koichi Endo, Shinji Yokogawa
【発表題目】Effects of defect clustering on the shape of TDDB lifetime distribution and screening effectiveness
【著者】Koichi Endo, Shinji Yokogawa

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